快科技 12 月 18 日消息，近日，Intel 宣布已安装 ASML 最新的 TWINSCAN EXE:5200B 光刻系统，这是全球首套、也是目前最先进的第二代 High-NA EUV 光刻系统，将用于 Intel 14A 节点制程。

此前，Intel 曾于 2023 年底接收了首套 High-NA EUV 机型 EXE:5000，并在俄勒冈州的 Fab D1X 工厂完成了早期技术研发与人才储备，而此次落地的 EXE:5200B 则在生产力与精度上实现了提升。

Intel 指出，在与 ASML 的合作下，已成功证明了最先进的光刻设备，在提供改进的精度和生产力方面的技术可行性，为 High NA EUV 设备未来的大量制造奠定了基础。

根据官方资料，EXE:5200B 在标准条件下的产能可达每小时 175 片晶圆，但 Intel 计划通过进一步的系统调整，将产出率推高至每小时 200 片晶圆以上。

新系统还在 Intel 过去一年多对 High-NA EUV 光刻设备的使用经验之上，提升了套刻精度达到了 0.7nm。

Intel 表示，High-NA EUV 光刻设备是其晶圆代工中的重要能力，结合了自身在掩模、蚀刻、解析度增强和计量等相关领域的技能，达成了当今芯片所需的更精细晶体管细节。