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揭秘全球光刻机巨头ASML:从一个漏水棚子起步
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快科技 3 月 21 日消息,在当今半导体产业中,ASML 无疑是光刻设备领域的王者,全球最先进的半导体制造厂商,如台积电、英特尔、三星等,都高度依赖 ASML 提供的设备。

然而,很少有人知道,这个如今在全球占据主导地位的巨头,最初竟然是从一个漏水的棚子起步的。

根据最新报道,ASML 最初是由飞利浦与先进半导体材料国际公司(ASMI)合作创立的,当时,两家公司看到了曝光设备市场的潜力,决定共同建立一家专注于这一领域的新公司。

不过 ASML 的起点并不理想,它的第一个基地位于荷兰恩荷芬的 Strijp-T 原飞利浦园区,那是一个真正会漏水的单层预制建筑,与飞利浦 TQ 大楼的一楼相连,旧照片显示,当时的 ASML 基地确实是一个摇摇欲坠的棚子。

在 1970 年代初的研发基础上,ASML 很快推出了其首个系统—— PAS 2000 stepper 曝光机,公司业务也迎来蓬勃发展。

1985 年,ASML 迁入了专门为它建造的办公室和工厂,巧合的是,ASML 与镜头制造商卡尔蔡司的合作关系也在此时签署,并一直持续至今。

进入 1990 年代,ASML 推出了其突破性平台 PAS 5500 曝光设备,凭借这一成功,ASML 凭借其领先业界的曝光设备生产力和分辨率,最终在荷兰和纽约证券交易所成功上市。

2001 年,ASML 推出了第一台采用革命性双级技术的 Twinscan 机器,如今,ASML 凭借其 EXE 平台和 High-NA 技术再次达到了竞争对手无法突破的界限。

ASML 最新的年度报告显示,其营收接近 310 亿美元,业务遍及 60 多个国家地区,员工超过 44000 名。

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