IT之家 02-13
消息称三星进一步升级西安工厂闪存工艺:年内建成 V9 NAND 产线
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IT 之家 2 月 13 日消息,韩媒 SEDaily 昨日报道称,三星中国西安 NAND 闪存工厂在将制程从第六代 V-NAND(IT 之家注:136 层)转换至第八代(238 层)的基础上,还计划在年内建设第九代(286 层)产线。

报道宣称,三星西安 NAND 厂生产   V9 NAND 所需的新设备将于今年上半年导入,目标是到年底建成晶圆吞吐量达每月 2000~5000 片的产线

三星电子在去年先后宣布其基于第九代 V-NAND 技术的 TLC 和 QLC 颗粒量产,目前相关产品正在其韩国平泽 P4 工厂制造。而三星下代堆叠达 4XX 层的 V10 NAND 预计将于 2 月 19 日在   ISSCC 2025 上对外公布。

韩媒认为,三星正通过制程升级转换来提升高性能、高容量、高盈利能力的 " 三高 " 先进节点 NAND 在其整体产能中的占比,应对目前情况不佳的闪存市况;同时工艺变动带来的自然减产也能加速供需平衡的到来。

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