快科技 12 月 18 日消息，虽然在 EUV 光刻机上已经出局，但日本依然是全球第二大光刻机供应商，这几年日本公司也在憋足劲开发可替代 EUV 的光刻方案，他们选择了 NIL 纳米压印技术路线。

此前日本佳能、尼康等公司有过这种技术展示，现在日本 DNP 公司（大日本印刷株式会社）也宣布开发出了 10nm 的 NIL 纳米压印技术，可以将电路图直接印在基板上，该技术可以用于 1.4nm 工艺的逻辑芯片曝光。

具体技术上，DNP 的 10nm 纳米压印技术采用 SADP 自对准双重图案技术，一次曝光 + 两次图案能够制造成双倍精度的芯片，可以满足先进工艺逻辑芯片的要求，而且功耗优势明显，DNP 公司称其能耗只有当前主流工艺的 1/10 左右。

该公司已经研发 NIL 技术超过 20 年，目前的技术已经可以部分替代 EUV 光刻，为芯片制造商提供另一种高精度工艺生产的选择，现在已经在跟硬件供应商合作启动技术评估。

DNP 公司预计在完成客户验证，建立量产和供应体系之后，预计 2027 年开始量产出货。