快科技 3 月 26 日消息，莫斯科市长谢尔盖 · 索比亚宁 ( Sergei Sobyanin ) 公开宣布，来自莫斯科的泽列诺格勒纳米中心 ( Zelenograd Nanotechnology Center ) ，已经完成了俄罗斯第一台 350nm 光刻机的研发工作，即将批量投产。

早在 2023 年，俄罗斯就披露，将在 2024 年生产 350nm 光刻机，2026 年生产 130nm 光刻机，承担这些任务的包括莫斯科、泽列诺格勒、圣彼得堡、新西伯利亚的多家工厂。

2024 年 5 月，俄罗斯披露已完成第一台国产光刻机的组装，并正在测试，可生产 350nm 芯片。

谢尔盖 · 索比亚宁现在公布了俄罗斯国产 350nm 光刻机的第一张实物照片。

他强调：" 全球有能力制造这种半导体关键设备的国家不足 10 个，俄罗斯已经跻身其中。这是俄罗斯迈向微电子国产化、达成技术独立的关键一步。"

据他披露，俄罗斯的光刻机和外国类似设备截然不同，没有使用汞灯作为光源，而是首次使用固体激光器，具有功率大、能效高、寿命长、光谱集中的优势。

同时，俄罗斯光刻机的工作区域面积达到了 22x22 毫米，最大可制造 200mm 直径晶圆。

值得一提的是，我国中科院研发成功的 DUV 激光光源技术，也是完全基于固态设计，有望推进至 3nm 节点，只是目前还存在功率、频率偏低的不足。

350nm 工艺看起来很落后，但依然可以满足汽车、能源、通信等领域的部分需求，而且俄罗斯正在继续推进 130nm 光刻机的研发工作，预计明年即可完成。

另外，俄罗斯已经掌握 65nm 工艺制造技术，但依赖国外进口设备，目前也正在为 65nm 国产化做准备。