快科技 3 月 13 日消息，据韩国媒体报道，三星电子已于本月初在其华城园区引入首台 ASML 生产的 High-NA EUV 光刻机—— EXE:5000，价值高达 5000 亿韩元（约合 24.88 亿元人民币）。

ASML 是目前全球唯一能够提供此类设备的供应商，其通过增大透镜和反射镜尺寸，将数值孔径（NA）从 0.33 提升至 0.55，显著提高了光刻精度，是 2nm 及以下制程的必备工具。

与现有 EUV 设备相比，High-NA EUV 能够实现更窄的电路线宽，从而降低功耗并提升数据处理速度。

三星电子计划在完成设备安装后，全面构建 2nm 工艺生态系统，三星晶圆代工业务部负责人强调，尽管公司在 GAA 工艺转换上领先，但在商业化方面仍需加速，2nm 工艺的快速量产是其首要任务。

TrendForce 数据显示，三星在 2023 年第四季度全球晶圆代工市场排名第二，但其收入环比下降 1.4%，市场份额仅为 8.1%。

相比之下，台积电以 67% 的市场份额保持领先地位，此次引入 High-NA EUV 光刻机，三星有望加速其在先进制程上的商业化进程。