钛媒体 App 10 月 30 日消息，据 ET News，有报道援引消息人士称，三星电子将从 ASML 引进首台 High-NA EUV 光刻机 EXE:5000，预计 2025 年初到货。半导体设备安装通常需要较长测试时间，该光刻机预计最快 2025 年中旬开始运行。High-NA EUV 为 2 纳米以下先进制程所需设备，韩国业界预期，三星也将正式启动 1 纳米芯片的商用化进程。 ( 财联社 )